Magnetron Sputter Kaplama Sistemi SD-900M – VPI 1

Magnetron Sputter Kaplama Sistemi SD-900M – VPI

SD-900M model Magnetron İyon Sputtering Kaplama Cihazı, yüksek verimli vakum pompası ve gaz kontrol sistemiyle ince kaplama işlemleri için uygundur. 2 Pa’ya kadar vakum sağlayabilen cihaz, altın, gümüş ve platin hedefleriyle çalışabilir. Kompakt tasarımı ve düşük güç tüketimi ile verimli ve ekonomik bir çözüm sunar.

Teknik Özellikler:

  • Vakum Pompası Seti: 50 Hz’de 8 m³/saat (2.2 L/s) ve 60 Hz’de 9.6 m³/saat (2.6 L/s) vakum pompalama hızı sağlar.
  • Vakum Limiti: Cihaz, 2 Pa’ya kadar vakum sağlayabilir.
  • Maksimum Sputtering Akımı: 100mA.
  • Çalışma Basıncı: Cihaz, 20 Pa ile 8 Pa arasında bir çalışma basıncına sahiptir.
  • Vakum Süresi: 2 Pa’ya kadar vakum alma süresi 5 dakikadan azdır.
  • Vakum Ölçme Aralığı: Atmosferden 2×10 mbar’a kadar ölçme aralığına sahiptir.
  • Gaz Kontrolü: Cihazda gaz akışı kontrolü için bir gaz akış kontrolörü bulunmaktadır.
  • Kamera Boyutu: 150 mm çapında ve 120 mm yüksekliğinde, çizilmeye dayanıklı kuvars camı kullanılmıştır.
  • Manyetron Hedef Kaynağı: Hedef boyutu 50 mm çapında ve 0.1 mm kalınlığında altın (Au) hedefiyle donatılmıştır. Ayrıca, hedef kaynakları olarak Altın (Au), Gümüş (Ag), ve Platin (Pt) kullanılabilir.
  • Çalışma Yöntemi: Manyetron iyon sputtering yöntemiyle kaplama yapılır.
  • Ağırlık / Boyutlar: Cihazın ağırlığı 45 kg’dır ve boyutları 360 mm uzunluk, 300 mm genişlik ve 380 mm yüksekliktedir.
  • Güç Kaynağı: AC 110V 60Hz veya AC 220V 50Hz güç seçeneklerine sahiptir.
  • Güç Tüketimi: Cihazın güç tüketimi 1500W’dan azdır.
  • Soğutma Yöntemi: Su soğutma (isteğe bağlı).

Cihazı kişiselleştirmek ya da özelleştirmek istiyorsanız, lütfen bize ulaşın. İhtiyaçlarınıza göre size özel çözümler sunalım!